Лабораторные
Решения

Универсальный анализатор любых металлов и сплавов OBLF VeOS

Универсальный, гибкий экспесс-анализатор любых металлов и сплавов с регистрацией на CCD сенсорах.

Категория: Состав металлов и сплавов


  • Готов к работе после распаковки!
  • Гарантия 2 года и постгарантийное обслуживание!
  • Доставка в любую точку России!

Оптический эмиссионный спектрометр OBLF VeOS, универсальный экспресс-анализатор химического состава

Оптический эмиссионный спектрометр OBLF VeOS – универсальный, гибкий экспресс-анализатор любых металлов и сплавов.
Регистрация сигналов оптического эмиссионного спектрометра VeOS основана на охлаждаемых CCD- детекторах.

Оптический эмиссионный спектрометр OBLF VeOS применяется на любых предприятиях для контроля химического состава металлов и сплавов. Используется для научных исследований (например, для изучения межэлементных влияний в сплавах и т.п.), разработки новых сплавов.

Преимущества:

  • Одновременное определение всех элементов в пробе
  • Анализ различных матриц (Fe, Al, Ni, Ti, Cu, Zn, Co, Mg, Pb, Sn)
  • Возможность комбинирования разных матриц на одном приборе
  • Анализ N, C, S, P (азот, углерод, сера, фосфор) в металлах
  • Автоматическое профилирование и коррекция дрейфа

OBLF VeOS

  • Решает широкий круг практических задач промышленных лабораторий металлургических предприятий, включая производителей чистых металлов.
  • Стационарный эмиссионный спектрометр, основанный на полупроводниковой сенсорной системе. Бескомпромиссная конструкция, сочетающая высокие аналитические показатели с невероятной гибкостью CCD/CMOS детекторов.
  • Обеспечивает точный анализ коротковолновых элементов, напр. сера, фосфор, азот, низкие концентрации углерода в стали, фосфор в алюминии и т.д.

Достоинства:

  • Всеобъемлющая мультиматричная система без ограничений в выборе элементов для анализа
  • Выбор любой спектральной линии пользователем в диапазоне от 130 до 780 нм.
  • Одновременное определение всех элементов в пробе
  • Анализ различных основ (Fe, Al, Ni, Ti, Cu, Zn, Co, Mg, Pb, Sn)
  • Возможность комбинирования разных основ на одном приборе
  • Анализ N, C, S, P в металлах
  • Удовлетворяет всем аналитическим задачам
  • Легко добавляемые аналитические линии
  • Новейшая, специально разработанная технология детекторов
  • Точное определение низких пределов содержания N и C (технология ULC)
  • Превосходные эксплуатационные качества благодаря пределу обнаружения, точности и стабильности
  • Автоматическое профилирование и коррекция дрейфа
  • Надёжная конструкция для работы в жестких производственных условиях

Детекторы

Конструкция светочувствительных детекторов CMOS специально приспособлена для требований эмиссионной спектрометрии. Они отличаются большой светочувствительной поверхностью, которая в 100 раз больше, чем в сопоставимых системах.

  •  В VeOS применяются высококачественные эксклюзивные твердотельные детекторы, разработанные специально для эмиссионной спектроскопии
  • Усовершенствована чувствительность сенсоров:большая площадь пиксела: узкие и высокие пикселы (для повышения разрешения и чувствительности)отсутствие органических покрытий для повышения чувствительности в УФ- диапазоне (как результат- долговременная стабильность)
  • Истинная технология компенсации шума CDS (двойное сэмплирование)
  • Улучшена чувствительность в УФ-области без органического покрытия
  •  Избирательная чувствительность для каждого сенсора
  • 16 битное АЦП преобразование для измерения в большом динамическом диапазоне
  • Быстрое считывание за 2 мс
  • Отсутствие блюмингового эффекта (эффекта «распускания») благодаря специальной конструкции транзистора
  • Охлаждение детекторов для уменьшения темнового шума и улучшения стабильности сигнала
  • Технология объединения сигналов с пикселов для повышения аналогового сигнала (только для CMOS)

Необслуживаемый цифровой генератор GDS III

  • Обеспечивает высочайшую степень воспроизводимости по всем параметрам возбуждения
  • Улучшает точность и пределы обнаружения концентраций элементов
  • Снижает межэлементные влияния и влияние фона
  • Параметры возбуждения оптимизированы
  • Программируемая частота разряда 1 Гц- 1 кГц

Искровой штатив

Конструкция штатива позволяет получать оптимальный световой поток для элементов, возбужденных в различных областях плазмы, что крайне важно для определения следовых концентраций

  • Оптимальный участок плазмы искры
  • Запатентованная импульсная продувка аргоном
  • Термостабилизация штатива
  • Простой доступ для обслуживания

Считывающая и обрабатывающая электроника полностью помещены в термостабилизированную вакуумную камеру.

Программное обеспечение

Базируется на концепции OBLF, сочетающей использование микропроцессоров для контроля работы отдельных устройств спектрометра и регистрации аналитических сигналов, с центральным управляющим ПК и аналитическим программным обеспечением на базе платформы Windows™. Управляется с помощью системы меню, оптимизировано для быстрой работы. Экранный интерфейс оператора на русском языке.
Возможности

  • Обработка данных спектраразличные режимы сглаживания формы кривой спектральных линий (FFT, spline, Savitzky-Golay)«вычитание» фона для каждой линиипостоянная проверка профиля линиииспользование нескольких линий сравнения«Анализатор спектра» (позволяет увидеть на экране весь спектр, параметры канала)
  • Технологии компенсации фона
  • Расчет интенсивностей канала (n-Pixel-Integral, Gauss area, Peakheight)
  • Виртуальная выходная щель шириной 3 – 100 pm
  • Линейная интерполяция для «улучшения» спектрального разрешения
  • Контроль профиля
  • Контроль темнового тока
  • Автоматическое профилирование с помощью ПО
 

Характеристика

Значение
Оптическая схема Пашена-Рунге500 мм
Плоская решётка160 мм
Разрешение дифракционной решётки2600 линий/мм
Обратная дисперсия для 1-го порядка0,78 и ~4 нм/мм
Диапазон длин волн130-680/780 нм
Частота искрового разряда1 – 1000 Гц
Чистота аргона99,998 %
Расход аргона на один прожиг в Fe-матрицемакс. 2,4 л
Расход аргона во время ожиданиякапиллярный
Габариты прибора, Д х Ш х В1150 х 740 х 1340 мм
Вес нетто300 кг